真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵進(jìn)口Pfeiffer分子泵
前級(jí)泵機(jī)械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺(tái),300W射頻電源1臺(tái)
流量計(jì)20sccm/50sccm進(jìn)口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機(jī)LX-300
前級(jí)閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺(tái)Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進(jìn)口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機(jī)架機(jī)電一體化
預(yù)留接口CF35法蘭一個(gè)
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
PVD(物相沉積)鍍膜機(jī)是一種用于在材料表面形成薄膜涂層的設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。PVD技術(shù)通過物理方式將材料蒸發(fā)并沉積到基材上,從而形成所需的薄膜。
### PVD鍍膜機(jī)的主要組成部分:
1. **真空系統(tǒng)**:用于將腔體抽真空環(huán)境,以減少氣體分子對(duì)沉積薄膜的影響。
2. **蒸發(fā)源**:對(duì)待鍍材料進(jìn)行加熱蒸發(fā),常見的有電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和濺射等方式。
3. **基材臺(tái)**:用于放置待鍍材料,通常具有加熱功能以促進(jìn)薄膜的生長。
4. **氣體引入系統(tǒng)**:用于控制沉積過程中氣氛的成分,如氬氣、氮?dú)獾取?br/>5. **監(jiān)測(cè)系統(tǒng)**:用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)沉積過程中的薄膜厚度和質(zhì)量。
### PVD工藝的優(yōu)點(diǎn):
- **高純度**:由于在高真空環(huán)境下操作,薄膜的化學(xué)成分純度較高。
- **良好的附著力**:沉積膜與基材之間的附著力較好,適用于要求較高的應(yīng)用。
- **多樣化的材料選擇**:可以沉積金屬、氧化物、氮化物等多種材料,滿足不同需求。
### 應(yīng)用范圍:
- **半導(dǎo)體器件**:用于集成電路及微電子器件的制造。
- **光學(xué) coating**:如反射鏡、抗反射膜等。
- **硬質(zhì)涂層**:用于工具和機(jī)械部件的保護(hù)。
- **裝飾性涂層**:用于電子消費(fèi)品、珠寶等的表面處理。
### 發(fā)展方向:
隨著科技的進(jìn)步,PVD鍍膜技術(shù)也在不斷發(fā)展,朝著更高的沉積速率、的膜質(zhì)量和更廣泛的材料適應(yīng)性方向發(fā)展。
濺射靶是一種用于薄膜沉積技術(shù)的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于物理、材料科學(xué)和半導(dǎo)體工業(yè)。其主要功能包括:
1. **物質(zhì)沉積**:通過濺射技術(shù)將靶材(如金屬、合金或氧化物)中的原子或分子打出,并在基材表面形成薄膜。
2. **薄膜均勻性**:濺射靶能夠在較大的面積上實(shí)現(xiàn)均勻的薄膜沉積,這對(duì)許多應(yīng)用至關(guān)重要。
3. **控制膜厚度**:通過調(diào)整濺射時(shí)間、功率和氣氛等參數(shù),可以控制沉積膜的厚度。
4. **材料多樣性**:能夠處理多種不同類型的靶材,適用于不同的應(yīng)用需求。
5. **低溫沉積**:濺射過程通常在較低溫度下進(jìn)行,因此適合一些熱敏材料的沉積。
6. **量膜**:濺射技術(shù)可制作高致密性、低缺陷的薄膜,適合高性能電子元件和光電器件等。
7. **大面積沉積**:有些濺射靶可以實(shí)現(xiàn)大面積的一次性沉積,適合工業(yè)化生產(chǎn)。
8. **功能薄膜制備**:可以用于制備功能性薄膜,如透明導(dǎo)電氧化物(TCO)、磁性薄膜及其他材料。
濺射靶的技術(shù)進(jìn)步與材料科學(xué)的發(fā)展密切相關(guān),對(duì)推動(dòng)新材料的研究和應(yīng)用起到了重要作用。

磁控濺射鍍膜機(jī)是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、太陽能、LED等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過濺射技術(shù),將靶材表面的原子或分子激發(fā)并沉積在基材表面,從而形成薄膜??梢猿练e金屬、絕緣體和半導(dǎo)體等多種材料。
2. **膜層均勻性調(diào)控**:通過調(diào)整濺射參數(shù)(如氣體流量、功率、沉積時(shí)間等),可以控制薄膜的厚度和均勻性,滿足不同應(yīng)用的要求。
3. **材料性質(zhì)優(yōu)化**:可以通過改變靶材的種類、沉積環(huán)境等方式,調(diào)節(jié)薄膜的物理和化學(xué)性質(zhì),如電導(dǎo)率、光學(xué)透過率等。
4. **多層膜沉積**:可以實(shí)現(xiàn)多層膜的交替沉積,滿足復(fù)雜器件的需求,比如光學(xué)濾光片、傳感器等。
5. **真空環(huán)境**:在真空條件下進(jìn)行沉積,可以減少膜層缺陷,提高膜層的質(zhì)量及其性能。
6. **可控厚度及成分**:通過控制濺射時(shí)間和功率,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)膜層厚度及化學(xué)成分的準(zhǔn)確調(diào)控,適用于應(yīng)用需求。
7. **適應(yīng)性強(qiáng)**:可以使用多種靶材和基材,廣泛應(yīng)用于不同領(lǐng)域,包括電子器件、光電材料、裝飾性涂層等。
磁控濺射鍍膜機(jī)因其優(yōu)越的沉積過程和膜層質(zhì)量,在現(xiàn)代材料科學(xué)和工程中占有重要地位。

小型磁控濺射鍍膜機(jī)具有以下幾個(gè)特點(diǎn):
1. **占用空間小**:小型設(shè)計(jì)使其適合在實(shí)驗(yàn)室或小型生產(chǎn)環(huán)境中使用,便于安裝和操作。
2. **高沉積速率**:磁控濺射技術(shù)通過磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化率,從而提高沉積速率,適合快速制備薄膜。
3. **沉積均勻性好**:由于磁場(chǎng)的應(yīng)用,能夠?qū)崿F(xiàn)較為均勻的薄膜沉積,提高膜層的質(zhì)量和一致性。
4. **適用材料廣泛**:能夠?yàn)R射多種金屬、合金及絕緣材料,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
5. **可控性強(qiáng)**:可以控制沉積厚度、沉積速率和氣氛,便于實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)中的參數(shù)調(diào)整。
6. **能**:磁控濺射技術(shù)相對(duì)傳統(tǒng)濺射技術(shù)能量損耗較小,效率較高,有助于降低生產(chǎn)成本。
7. **多靶配置**:一些小型鍍膜機(jī)支持多靶配置,能夠同時(shí)沉積不同材料,適應(yīng)復(fù)雜的薄膜制備需求。
8. **易于維護(hù)**:小型設(shè)備一般結(jié)構(gòu)簡單,便于操作和維護(hù),適合實(shí)驗(yàn)室的日常使用。
9. **環(huán)境友好**:多數(shù)小型磁控濺射鍍膜機(jī)可以使用低氣壓條件下工作,減少揮發(fā)性有機(jī)物等污染。
這些特點(diǎn)使得小型磁控濺射鍍膜機(jī)在科研、電子、光學(xué)及功能性涂層等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。

樣品臺(tái),通常用于實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)生產(chǎn)和研究等領(lǐng)域,具有以下幾個(gè)特點(diǎn):
1. **穩(wěn)定性**:樣品臺(tái)通常設(shè)計(jì)得穩(wěn)定,以確保在進(jìn)行實(shí)驗(yàn)或觀察時(shí),樣品受到外部震動(dòng)或干擾的影響。
2. **調(diào)整功能**:許多樣品臺(tái)具有高度可調(diào)節(jié)性,允許用戶根據(jù)需要調(diào)整樣品的位置和角度,以便于觀察和測(cè)量。
3. **易清潔性**:樣品臺(tái)通常采用易于清洗的材料,能夠防止樣品的污染,同時(shí)在使用過程中保持衛(wèi)生。
4. **多功能性**:某些樣品臺(tái)配備了不同的附件和配件,支持實(shí)驗(yàn)需求,例如光學(xué)顯微鏡、測(cè)量儀器等。
5. **適應(yīng)性強(qiáng)**:樣品臺(tái)的設(shè)計(jì)往往可以根據(jù)不同類型的樣品(如液體、固體、粉末等)進(jìn)行調(diào)整,以適應(yīng)不同的實(shí)驗(yàn)需求。
6. **材料選用**:樣品臺(tái)通常采用耐腐蝕、耐高溫或其他特殊材料,以適應(yīng)不同實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
7. **標(biāo)記系統(tǒng)**:許多樣品臺(tái)上會(huì)有標(biāo)記或者刻度,使用戶能夠定位樣品位置。
8. **光學(xué)性能**:在光學(xué)實(shí)驗(yàn)中,樣品臺(tái)可能會(huì)考慮透光性和反射性,以確保觀測(cè)效果的清晰度。
這些特點(diǎn)使得樣品臺(tái)在不同領(lǐng)域的應(yīng)用中顯得尤為重要,能夠提高實(shí)驗(yàn)的性和效率。
小型磁控濺射鍍膜機(jī)是一種常見的薄膜沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。其適用范圍主要包括:
1. **材料科學(xué)**:用于研究新材料的特性和薄膜的性能,可以制備金屬、合金和合成材料的薄膜。
2. **電子器件**:在半導(dǎo)體、光電器件等領(lǐng)域,常用于制造電極、保護(hù)膜和介電層等。
3. **光學(xué) coating**:用于光學(xué)元件的鍍膜,如鏡頭、光學(xué)濾光片、防反射涂層等。
4. **太陽能電池**:用于鍍膜太陽能電池的材料,提升其光電轉(zhuǎn)換效率。
5. **傳感器**:在傳感器的制造中用于沉積感應(yīng)膜,提升其性能和穩(wěn)定性。
6. **飾品與裝飾品**:用于金屬表面的裝飾性鍍膜,提高美觀及防腐蝕性能。
7. **生物醫(yī)學(xué)**:在生物材料和器械的表面改性中,改善表面特性,促進(jìn)生物相容性。
8. **實(shí)驗(yàn)室研究**:小型設(shè)備適合于科研實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料合成與性質(zhì)測(cè)試。
小型磁控濺射鍍膜機(jī)因其操作靈活、適用性廣泛,受到許多行業(yè)和科研機(jī)構(gòu)的歡迎。
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