真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵進(jìn)口Pfeiffer分子泵
前級(jí)泵機(jī)械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺(tái),300W射頻電源1臺(tái)
流量計(jì)20sccm/50sccm進(jìn)口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機(jī)LX-300
前級(jí)閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺(tái)Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進(jìn)口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機(jī)架機(jī)電一體化
預(yù)留接口CF35法蘭一個(gè)
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
磁控濺射鍍膜機(jī)是一種常用的真空沉積技術(shù)設(shè)備,主要用于在基材上沉積薄膜。其工作原理是利用磁場增強(qiáng)等離子體的密度,從而提高濺射效率。以下是磁控濺射鍍膜機(jī)的一些基本信息和應(yīng)用:
### 工作原理
1. **真空環(huán)境**:磁控濺射鍍膜機(jī)在高真空環(huán)境下工作,以減少污染和氣體干擾。
2. **靶材**:設(shè)備內(nèi)部通常有一個(gè)靶材,靶材是需要沉積的材料(如金屬、氧化物等)。
3. **等離子體形成**:通過施加高電壓,在氣體(如氬氣)中產(chǎn)生等離子體。
4. **磁場增強(qiáng)**:通過強(qiáng)磁場,增加等離子體的密度,使得靶材表面發(fā)生濺射效應(yīng);靶材原子被彈出后,沉積在基材表面形成薄膜。
### 設(shè)備結(jié)構(gòu)
- **真空腔體**:用于創(chuàng)造真空環(huán)境。
- **靶材夾持系統(tǒng)**:用于固定靶材。
- **氣體流量控制系統(tǒng)**:用于調(diào)節(jié)氣體的流入和壓力。
- **電源系統(tǒng)**:用于提供所需的高電壓。
- **基材夾持系統(tǒng)**:用于固定需要鍍膜的基材。
### 應(yīng)用領(lǐng)域
- **半導(dǎo)體行業(yè)**:用于制造集成電路、薄膜晶體管等。
- **光電器件**:如太陽能電池、光學(xué)器件等。
- **裝飾鍍膜**:提供具備美觀效果的金屬膜層。
- **硬質(zhì)涂層**:用于工具表面涂層,提高耐磨性。
### 優(yōu)勢(shì)
- **薄膜均勻性好**:能夠?qū)崿F(xiàn)均勻的厚度分布。
- **適應(yīng)性強(qiáng)**:可沉積多種材料,靈活性高。
- **控制精度高**:可以控制薄膜的厚度和成分。
### 結(jié)論
磁控濺射鍍膜機(jī)是一種、靈活的鍍膜技術(shù),廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域。隨著技術(shù)的發(fā)展,設(shè)備的性能和應(yīng)用范圍不斷擴(kuò)展。
濺射靶是一種廣泛應(yīng)用于物理、材料科學(xué)和納米技術(shù)等領(lǐng)域的設(shè)備,主要用于薄膜的沉積。其特點(diǎn)包括:
1. **高精度沉積**:濺射靶能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的薄膜沉積,控制膜層的厚度和組成。
2. **多種材料適用性**:能夠使用金屬、合金、陶瓷等多種靶材進(jìn)行沉積,適用范圍廣泛。
3. **較低的沉積溫度**:與其他沉積技術(shù)(如化學(xué)氣相沉積)相比,濺射沉積可以在較低的溫度下進(jìn)行,有助于保護(hù)基材。
4. **良好的膜質(zhì)量**:沉積的薄膜通常具備良好的均勻性和致密性,適合用于電子、光學(xué)等高性能應(yīng)用。
5. **靈活的氣氛控制**:可以在真空或氣氛環(huán)境中操作,靈活性強(qiáng),適應(yīng)不同的實(shí)驗(yàn)需求。
6. **搬運(yùn)便捷**:許多濺射靶設(shè)計(jì)緊湊,便于實(shí)驗(yàn)室使用和搬運(yùn)。
7. **擴(kuò)展應(yīng)用**:不僅可以用于厚膜沉積,還可以用于微納結(jié)構(gòu)的制作,常用于半導(dǎo)體制造、光電器件等領(lǐng)域。
8. **易于實(shí)現(xiàn)多層膜結(jié)構(gòu)**:通過控制濺射時(shí)間和靶材,可以輕松實(shí)現(xiàn)多層膜的構(gòu)建,滿足復(fù)雜的功能需求。
濺射靶的這些特點(diǎn)使其成為現(xiàn)代材料科學(xué)和納米技術(shù)研究中的重要工具。

桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、光學(xué)及材料科學(xué)等領(lǐng)域。以下是桌面型磁控濺射鍍膜儀的一些主要特點(diǎn):
1. **緊湊設(shè)計(jì)**:桌面型設(shè)計(jì)占用空間小,適合實(shí)驗(yàn)室環(huán)境,有利于提高實(shí)驗(yàn)室的使用效率。
2. **高均勻性**:通過磁場增強(qiáng)濺射過程,提高薄膜的均勻性和致密性,能夠在較大面積上達(dá)到一致的膜厚。
3. **可控性**:支持控制沉積參數(shù),如氣壓、濺射功率和沉積時(shí)間,便于實(shí)現(xiàn)不同材料和膜厚的調(diào)節(jié)。
4. **多種靶材選擇**:支持多種材料的靶材,能夠?qū)崿F(xiàn)金屬、氧化物、氮化物等不同類型薄膜的沉積。
5. **低溫沉積**:相較于其他鍍膜技術(shù),磁控濺射通??稍谳^低溫度下進(jìn)行,有助于保護(hù)基材和改善膜的性能。
6. **清潔環(huán)境**:通常配備有真空系統(tǒng),能夠在相對(duì)潔凈的環(huán)境下進(jìn)行沉積,減少污染。
7. **自動(dòng)化程度高**:一些型號(hào)支持自動(dòng)化控制和監(jiān)測(cè),便于實(shí)驗(yàn)操作和數(shù)據(jù)記錄,提高了實(shí)驗(yàn)效率和重復(fù)性。
8. **易于維護(hù)**:桌面型設(shè)備結(jié)構(gòu)相對(duì)簡單,便于日常維護(hù)和保養(yǎng),降低了運(yùn)行成本。
這些特點(diǎn)使得桌面型磁控濺射鍍膜儀在科研和工業(yè)應(yīng)用中越來越受到歡迎。

離子濺射儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造和表面分析等領(lǐng)域的設(shè)備,其主要特點(diǎn)包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級(jí)上進(jìn)行物質(zhì)的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級(jí)別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應(yīng)性強(qiáng)。
3. **層次控制**:可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結(jié)構(gòu)。
4. **較強(qiáng)的適應(yīng)性**:離子源與靶材的組合可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整,使得該儀器可以處理多種不同類型的材料。
5. **真空環(huán)境**:離子濺射在真空環(huán)境中進(jìn)行,有助于減少氣體分子對(duì)沉積過程的干擾,提高沉積質(zhì)量。
6. **可調(diào)節(jié)能量**:離子源可以調(diào)節(jié)離子的能量,從而控制濺射過程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質(zhì)。
7. **低溫沉積**:相較于傳統(tǒng)的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進(jìn)行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過選擇合適的離子種類和能量,可以對(duì)材料表面進(jìn)行改性,如提高表面硬度或改變表面化學(xué)性質(zhì)。
總的來說,離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應(yīng)性,在現(xiàn)代材料科學(xué)和工程中發(fā)揮著重要作用。

PVD(物相沉積)鍍膜機(jī)是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、工具制造和裝飾等領(lǐng)域。其主要特點(diǎn)包括:
1. **薄膜質(zhì)量高**:PVD工藝能夠在較低的溫度下沉積量、高致密度的薄膜,具有良好的附著力和均勻性。
2. **材料多樣性**:PVD技術(shù)可以鍍金屬、合金和陶瓷材料,能夠滿足不同應(yīng)用需求。
3. **環(huán)保性**:PVD過程通常不涉及有害化學(xué)物質(zhì),相比于化學(xué)氣相沉積(CVD)等工藝更為環(huán)保。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過調(diào)整工藝參數(shù),可以控制薄膜的沉積速率,從而滿足不同應(yīng)用的需求。
5. **設(shè)備占用空間小**:PVD鍍膜機(jī)相對(duì)較小,適合在空間有限的環(huán)境中使用。
6. **自動(dòng)化程度高**:現(xiàn)代PVD設(shè)備通常具有較高的自動(dòng)化水平,可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蝕性**:沉積的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蝕性,適用于工業(yè)應(yīng)用。
8. **適應(yīng)性強(qiáng)**:可以處理不同形狀和尺寸的基材,從小型零件到大型工件均可適應(yīng)。
這些特點(diǎn)使得PVD鍍膜機(jī)在多個(gè)領(lǐng)域得以廣泛應(yīng)用,并逐漸成為現(xiàn)代材料表面處理的重要設(shè)備。
靶材的適用范圍主要取決于其材料特性和應(yīng)用領(lǐng)域。以下是一些常見的靶材及其適用范圍:
1. **金屬靶材**:常用于沉積和涂層技術(shù),如磁控濺射、物相沉積(PVD)等??梢杂糜谥圃彀雽?dǎo)體、光電器件及表面處理等。
2. **陶瓷靶材**:通常用于高溫應(yīng)用和特殊電子器件的制造,具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性能。
3. **復(fù)合材料靶材**:用于需要輕量化和高強(qiáng)度的應(yīng)用,如、汽車工業(yè)等。
4. **聚合物靶材**:適用于某些特殊的涂層和薄膜技術(shù),常用于電子產(chǎn)品和光學(xué)設(shè)備中。
5. **稀土金屬靶材**:應(yīng)用于特殊磁性材料和激光器的制造。
6. **生物靶材**:在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域中使用,用于制造生物相容性材料和藥物載體。
靶材的選擇不僅影響終產(chǎn)品的性能,還會(huì)對(duì)生產(chǎn)工藝和成本產(chǎn)生影響。因此,在選擇靶材時(shí),需根據(jù)具體的應(yīng)用需求進(jìn)行綜合考慮。
http://m.wenhaozhong.com