真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機(jī)械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機(jī)蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機(jī)LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機(jī)架機(jī)電一體化
預(yù)留接口CF35一個(gè)
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其基本原理是通過加熱材料,使其蒸發(fā)成氣態(tài),然后在基底表面凝結(jié)形成薄膜。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)通常由以下幾個(gè)主要部分組成:
1. **真空腔體**:提供低壓環(huán)境,以減少氣體分子對蒸發(fā)材料和沉積薄膜的干擾。
2. **加熱源**:通常使用電阻加熱絲或電子束加熱來加熱蒸發(fā)材料,達(dá)到其蒸發(fā)溫度。
3. **蒸發(fā)源**:放置待蒸發(fā)材料的容器,可以是鑄坯、靶材等。
4. **基底夾持系統(tǒng)**:用于固定和加熱待涂覆的基底,一般位于蒸發(fā)源的上方。
5. **監(jiān)控系統(tǒng)**:用于監(jiān)測沉積速度和膜厚,常用的技術(shù)有石英晶體振蕩器或光學(xué)膜厚測量。
6. **冷卻系統(tǒng)**:在一些情況下,可能需要冷卻基底以改善膜的品質(zhì)。
熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)包括沉積速度快、膜層均勻、膜的純度高等,但也有局限性,如膜的附著力和應(yīng)力問題。
在選購和使用熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)時(shí),需要根據(jù)具體的應(yīng)用需求,例如膜材料、沉積速率、膜厚度及基底材料等制定相應(yīng)的方案。
手套箱一體機(jī)是一種結(jié)合了手套箱和其他實(shí)驗(yàn)設(shè)備的綜合性實(shí)驗(yàn)裝置,主要用于處理在惰性氣氛(如氮?dú)?、氦氣等)下進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)或操作。其功能通常包括:
1. **惰性氣體保護(hù)**:手套箱內(nèi)可以充入惰性氣體,避免實(shí)驗(yàn)材料與空氣中的水分和氧氣反應(yīng),保護(hù)樣品的純凈性。
2. **手套操作**:設(shè)備通常配有手套,可以在不暴露于外部環(huán)境的情況下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作,如取樣、裝置組裝等。
3. **樣品存儲**:手套箱內(nèi)部可以用于存放敏感材料和試劑,確保其不受外界污染。
4. **氣體監(jiān)控**:一些手套箱一體機(jī)配備氣體監(jiān)控系統(tǒng),可以實(shí)時(shí)監(jiān)測箱內(nèi)環(huán)境,確保氣體濃度和成分的穩(wěn)定。
5. **溫度和濕度控制**:可以調(diào)節(jié)和控制箱內(nèi)的溫度和濕度,為實(shí)驗(yàn)提供理想環(huán)境。
6. **接口擴(kuò)展**:某些手套箱一體機(jī)設(shè)計(jì)有多種接口,可以與其他實(shí)驗(yàn)設(shè)備聯(lián)動,如真空泵、反應(yīng)釜等。
7. **數(shù)據(jù)記錄與控制**:部分設(shè)備能夠連接計(jì)算機(jī)或其他控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)記錄和實(shí)驗(yàn)過程的自動化監(jiān)控。
手套箱一體機(jī)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)反應(yīng)、制藥、生物實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域,尤其在對氧敏感或濕敏性的材料處理上具有重要意義。

桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀是一種常用的薄膜沉積設(shè)備,具有以下幾個(gè)顯著特點(diǎn):
1. **緊湊設(shè)計(jì)**:桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀通常體積較小,適合在實(shí)驗(yàn)室或小型生產(chǎn)環(huán)境中使用,便于放置和操作。
2. **蒸發(fā)**:利用熱源加熱蒸發(fā)材料,使其蒸發(fā)并沉積在基底上,能夠?qū)崿F(xiàn)的薄膜沉積。
3. **材料多樣性**:可以使用多種類型的蒸發(fā)材料,如金屬、氧化物等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
4. **真空系統(tǒng)**:一般配備有真空泵,能夠在相對較低的壓力下工作,提高膜層的純度和均勻性。
5. **易于控制**:搭載有控制系統(tǒng),能調(diào)節(jié)蒸發(fā)速率和沉積厚度,方便用戶根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求進(jìn)行參數(shù)設(shè)置。
6. **適應(yīng)性強(qiáng)**:可用于不同尺寸和形狀的基底,如平片、膠卷等,滿足不同實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)需求。
7. **品質(zhì)監(jiān)測**:一些型號可能配備有膜厚監(jiān)測系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)控沉積過程,確保膜厚的一致性。
8. **維護(hù)簡單**:相對而言,桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀的維護(hù)和操作相對簡單,適合研究人員和技術(shù)人員使用。
總之,桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀以其靈活性、便捷性和性,在材料科學(xué)、光電器件制造及其他相關(guān)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種用于在基材上沉積有機(jī)薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光電器件、顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域。其主要特點(diǎn)包括:
1. **能沉積**:有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)能夠地將有機(jī)材料轉(zhuǎn)化為氣相并沉積在基材表面,形成均勻的薄膜。
2. **良好的膜質(zhì)量**:設(shè)備通常采用的真空技術(shù),能夠有效去除雜質(zhì),從而獲得量的有機(jī)薄膜,具有良好的光學(xué)和電氣性能。
3. **自動化程度高**:現(xiàn)代有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般配備自動化控制系統(tǒng),能夠控制各個(gè)工藝參數(shù),如溫度、壓力、沉積速率等,提升了生產(chǎn)效率和膜層一致性。
4. **適應(yīng)性強(qiáng)**:該設(shè)備可以處理類型的有機(jī)材料,包括小分子有機(jī)物和高分子聚合物,適用于不同的應(yīng)用需求。
5. **設(shè)備靈活性**:有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)通常具有較高的配置靈活性,可以根據(jù)不同的工藝需求進(jìn)行調(diào)整和改造,適應(yīng)多種生產(chǎn)環(huán)境。
6. **節(jié)能環(huán)保**:部分有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)采用節(jié)能設(shè)計(jì),降低了能源消耗,同時(shí)在材料選擇和生產(chǎn)過程中也考慮環(huán)保因素。
7. **適用于大面積沉積**:一些型號能夠?qū)崿F(xiàn)大面積基材的沉積,滿足大尺寸器件的生產(chǎn)需求。
綜上所述,有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)憑借其、靈活和環(huán)保的特點(diǎn),成為了現(xiàn)代電子和光電產(chǎn)業(yè)中的重要設(shè)備。

熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種用于物相沉積(PVD)技術(shù)的設(shè)備,主要功能包括:
1. **膜層制備**:通過加熱蒸發(fā)材料,使其轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),并在基材表面沉積形成薄膜??梢杂糜谥苽浣饘佟⒔^緣材料或半導(dǎo)體薄膜。
2. **膜層厚度控制**:通過控制蒸發(fā)率和沉積時(shí)間,可以調(diào)節(jié)膜層的厚度。
3. **材料種類選擇**:可以使用多種材料進(jìn)行蒸發(fā),如金、銀、鋁、氧化物等,以實(shí)現(xiàn)不同的光學(xué)或電氣性能。
4. **真空環(huán)境控制**:在真空環(huán)境中進(jìn)行鍍膜,降低空氣中的雜質(zhì)對膜層質(zhì)量的影響,提高膜層的致密性和均勻性。
5. **基材適應(yīng)性**:可用于多種基材的鍍膜,包括玻璃、塑料、金屬等。
6. **功能性薄膜的制備**:可以制備不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、導(dǎo)電膜、光電膜等,廣泛應(yīng)用于光電子器件、顯示器、傳感器等領(lǐng)域。
7. **多層膜制備**:可實(shí)現(xiàn)多層膜的疊加,制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)以滿足特定的光學(xué)或電氣特性。
這些功能使得熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)在材料科學(xué)、電子、光學(xué)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子、光電和薄膜技術(shù)等領(lǐng)域的設(shè)備。其主要適用范圍包括:
1. **光學(xué)鍍膜**:用于制作抗反射涂層、增透膜、反射鏡等光學(xué)元件。
2. **電子器件**:可用于制備半導(dǎo)體器件中的金屬層、絕緣層和其他功能膜,比如太陽能電池、發(fā)光二極管(LED)等。
3. **硬涂層**:在工具、模具等表面鍍膜,以提高其耐磨性、抗腐蝕性和整體性能。
4. **傳感器**:在氣體傳感器、濕度傳感器等的開發(fā)中,利用鍍膜技術(shù)提高傳感器的靈敏度和選擇性。
5. **薄膜材料研究**:用于基礎(chǔ)研究,探索材料的薄膜生長行為及其物理性質(zhì)。
6. **實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用**:適合小批量生產(chǎn)和實(shí)驗(yàn)室研究,可以在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中進(jìn)行多種不同材料的蒸發(fā)鍍膜。
7. **裝飾鍍膜**:用于生產(chǎn)裝飾性薄膜,如金屬光澤涂層等。
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀以其操作簡便、成本相對較低,適合科研、教學(xué)和小規(guī)模生產(chǎn)等多種場合。
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