真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
樣品臺通常指用于放置或展示樣品的設(shè)備或平臺。在科學(xué)實驗、制造業(yè)、展覽等場合中,樣品臺有助于研究人員或客戶觀察和分析樣品的特性。樣品臺可以具有不同的功能,如可調(diào)高度、旋轉(zhuǎn)、照明等,具體取決于其用途和設(shè)計要求。
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靶材是指在實驗或工業(yè)生產(chǎn)中用于材料分析、研究或加工的材料。靶材的特點主要包括以下幾個方面:
1. **成分純度**:靶材通常需要具備高純度,以確保實驗結(jié)果的準確性和重復(fù)性。
2. **均勻性**:靶材應(yīng)具備良好的均勻性,以避免在物理或化學(xué)反應(yīng)過程中產(chǎn)生不均勻現(xiàn)象,導(dǎo)致測試結(jié)果的偏差。
3. **機械性能**:靶材的機械強度、硬度和韌性等性能要求較高,以適應(yīng)不同的加工和使用條件。
4. **熱穩(wěn)定性**:靶材的熱穩(wěn)定性影響其在高溫環(huán)境下的性能,尤其是在氣相沉積等高溫工藝中,需要良好的耐熱性。
5. **反應(yīng)活性**:靶材的表面性質(zhì)和化學(xué)反應(yīng)性對材料的沉積或反應(yīng)過程有重要影響,通常需要設(shè)計出合適的表面處理以優(yōu)化性能。
6. **可加工性**:靶材需易于加工成所需的形狀和尺寸,方便在實驗和生產(chǎn)中使用。
7. **成本**:靶材的經(jīng)濟性也是一個關(guān)鍵因素,需要在性能和價格之間找到平衡。
靶材的選擇會根據(jù)具體應(yīng)用的需求有所不同,例如在半導(dǎo)體制造、涂層技術(shù)和材料科學(xué)研究中,靶材的特性往往會影響到終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。

桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域的設(shè)備,其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:可在基材上沉積薄膜,形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多樣性**:支持多種靶材(如金屬、合金、氧化物等),能夠制作出不同種類的薄膜。
3. **優(yōu)良的膜質(zhì)量**:采用磁控濺射技術(shù),可以有效提高薄膜的均勻性和致密性,提高膜的性能。
4. **可調(diào)節(jié)參數(shù)**:可以調(diào)節(jié)濺射功率、氣體流量、基片溫度等參數(shù),以滿足不同工藝要求。
5. **大面積鍍膜**:由于其設(shè)計,可以適用于大面積基片的鍍膜需求,在科研和工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的應(yīng)用價值。
6. **過程控制**:配備監(jiān)測系統(tǒng),可以實時監(jiān)測膜厚度、氣氛等,有助于控制沉積過程。
7. **易于操作**:桌面型的設(shè)計使得設(shè)備更加緊湊,操作相對簡單,適合實驗室環(huán)境使用。
8. **真空技術(shù)**:工作過程中保持真空環(huán)境,減少污染,提高沉積質(zhì)量。
這種設(shè)備在半導(dǎo)體器件制造、光學(xué)涂層、傳感器、太陽能電池等多個領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價值。

磁控濺射是一種廣泛應(yīng)用于薄膜沉積的技術(shù),主要用于在基材上沉積金屬、絕緣體或半導(dǎo)體材料。其功能和優(yōu)勢包括:
1. **量薄膜**:磁控濺射能夠沉積出均勻、致密且質(zhì)量優(yōu)良的薄膜,適用于材料,包括金屬、合金和氧化物等。
2. **可控性強**:通過調(diào)節(jié)濺射參數(shù)(如氣壓、電源功率、磁場強度等),可以控制薄膜的厚度和性質(zhì)。
3. **低溫沉積**:與其他沉積技術(shù)相比,磁控濺射通??梢栽谳^低溫度下進行,這對于熱敏感材料尤為重要。
4. **多種材料的沉積**:可以在不同類型的基材上沉積材料,適用范圍很廣。
5. **高沉積速率**:由于利用了磁場增強離子化過程,磁控濺射的沉積速率通常較高,能夠提高生產(chǎn)效率。
6. **良好的附著力**:沉積的薄膜與基材之間具有良好的附著力,適合用于多種應(yīng)用。
7. **均勻性和厚度控制**:可以實現(xiàn)大面積的均勻沉積,適用于需要大尺寸薄膜的應(yīng)用。
磁控濺射廣泛應(yīng)用于光電器件、太陽能電池、薄膜電路、保護涂層等領(lǐng)域。

樣品臺通常用于科學(xué)實驗、顯微鏡觀察及工業(yè)測試等領(lǐng)域,其主要功能包括:
1. **支撐樣品**:樣品臺提供一個穩(wěn)定的表面,用于放置和支撐待觀察或測試的樣品。
2. **調(diào)整位置**:許多樣品臺具有可調(diào)節(jié)的機制,允許用戶定位樣品,以便于觀察和分析。
3. **光學(xué)觀察**:在顯微鏡等光學(xué)設(shè)備中,樣品臺能夠在光束的照射下,讓研究人員清晰觀察樣品的細節(jié)。
4. **溫度控制**:一些樣品臺具有溫控功能,可以在特定的溫度條件下實驗,適用于生物樣品的觀測。
5. **樣品固定**:樣品臺上通常會配備夾具或黏合劑,以確保樣品在觀察或測試過程中移動。
6. **兼容性**:許多樣品臺設(shè)計為能夠與不同類型的設(shè)備(如顯微鏡、光譜儀等)兼容,便于科學(xué)研究。
7. **數(shù)據(jù)記錄**:某些樣品臺配備傳感器,可以實時記錄樣品的變化,便于后續(xù)分析。
以上是樣品臺的一些主要功能,具體功能可能根據(jù)不同的應(yīng)用領(lǐng)域和設(shè)備類型而有所不同。
樣品臺是一種用于放置和支撐樣品的實驗設(shè)備,廣泛應(yīng)用于多個領(lǐng)域。以下是樣品臺的主要適用范圍:
1. **生物醫(yī)學(xué)研究**:在顯微鏡下觀察細胞、組織切片和其他生物樣品。
2. **材料科學(xué)**:用于測試金屬、聚合物、陶瓷等材料的物理和化學(xué)性質(zhì)。
3. **化學(xué)分析**:在化學(xué)實驗中放置反應(yīng)瓶、試劑和其他化學(xué)物質(zhì)。
4. **電子顯微鏡**:在電子顯微鏡中支撐和固定樣品,以便進行高分辨率觀察。
5. **光學(xué)顯微鏡**:在光學(xué)顯微鏡中觀察細小結(jié)構(gòu)、顆粒和晶體等。
6. **工業(yè)檢測**:用于質(zhì)量控制和檢測產(chǎn)品樣品,如電子元件、機械零件等。
不同類型的樣品臺(如移動樣品臺、平面樣品臺等)可以根據(jù)具體需求進行選擇,以滿足不同實驗或檢測的需求。
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