真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
手套箱一體機是一種用于科學實驗和工業(yè)應用的設(shè)備,主要用于在嚴格的氣氛下進行操作。手套箱提供了一個封閉的工作空間,內(nèi)部可以控制氣體成分(如氮氣、氬氣或真空環(huán)境),以防止空氣中的水分和氧氣對敏感材料或化學反應的影響。
手套箱一體機通常集成了多個功能性模塊,如:
1. **氣體凈化系統(tǒng)**:使用干燥劑和過濾系統(tǒng)來去除空氣中的水分和雜質(zhì)。
2. **溫控系統(tǒng)**:維持箱內(nèi)溫度,以滿足特定實驗的需求。
3. **真空泵**:用于抽取箱內(nèi)空氣,創(chuàng)建真空環(huán)境。
4. **氣體注入系統(tǒng)**:可以在箱內(nèi)補充惰性氣體,確保氣氛的穩(wěn)定。
5. **操作手套**:提供安全的操作空間,使用戶可以在箱內(nèi)進行實驗。
手套箱一體機廣泛應用于材料科學、化學合成、電子制造、制藥等領(lǐng)域,尤其是在處理易氧化或潮濕敏感材料時,能夠提供必要的保護和控制環(huán)境。
束源爐(或稱束流反應堆)是一種利用粒子束產(chǎn)生高能粒子的設(shè)備,主要用于研究和應用于核物理、材料科學、醫(yī)學等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **粒子加速**:束源爐能夠加速粒子到高能狀態(tài),為后續(xù)的實驗提供足夠的能量。
2. **粒子束應用**:通過產(chǎn)生高能粒子束,束源爐可以用于材料的改性、診斷以及產(chǎn)生放射性同位素。
3. **核反應研究**:支持核物理研究,例如基本粒子的相互作用、核結(jié)構(gòu)和反應機制等。
4. **醫(yī)學應用**:在放射和核醫(yī)學中用于產(chǎn)生適用于的放射性同位素。
5. **探測**:用于開發(fā)和測試探測器及相關(guān)技術(shù)。
總結(jié)來說,束源爐是在科學研究和工業(yè)應用中重要的工具,具有多種功能。

電阻蒸鍍機是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應用于電子、光學和材料科學等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:電阻蒸鍍機能夠?qū)⒉牧希ㄈ缃饘?、合金、氧化物等)以蒸發(fā)形式沉積在基材表面,形成均勻的薄膜。
2. **高精度控制**:設(shè)備通常配備的溫度控制和蒸發(fā)速率監(jiān)測系統(tǒng),可以控制薄膜的厚度和均勻性。
3. **多種材料兼容**:電阻蒸鍍機可以用于多種類型的材料沉積,包括金屬(如鋁、金、銀)、合金以及一些特定的化合物。
4. **真空環(huán)境**:通過在真空環(huán)境中進行沉積,可以減少氣體分子對薄膜沉積的影響,從而提高薄膜的品質(zhì)和性能。
5. **可調(diào)參數(shù)**:用戶可以根據(jù)實際需求調(diào)整沉積溫度、速率、時間等參數(shù),以實現(xiàn)不同的應用效果。
6. **應用廣泛**:電阻蒸鍍機常用于制造光學元件、半導體器件、傳感器、太陽能電池等多種產(chǎn)品。
7. **自動化程度高**:現(xiàn)代電阻蒸鍍機通常具備計算機控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)自動化操作,提高生產(chǎn)效率。
總之,電阻蒸鍍機是一種重要的薄膜制備工具,其優(yōu)越的性能使其在科學研究和工業(yè)生產(chǎn)中都得到了廣泛應用。

熱蒸發(fā)鍍膜機是一種常用于薄膜沉積的設(shè)備,其主要特點包括:
1. **高純度鍍膜**:由于采用高溫加熱源,能有效蒸發(fā)材料,沉積出的薄膜通常具有較高的純度。
2. **良好的均勻性**:通過合理設(shè)計源與基片之間的距離,可以實現(xiàn)較均勻的膜層厚度。
3. **適用范圍廣**:可以用于多種材料的沉積,包括金屬、半導體及一些絕緣材料。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過調(diào)節(jié)加熱溫度和蒸發(fā)源的功率,可以實現(xiàn)不同沉積速率,滿足不同應用需求。
5. **操作簡便**:熱蒸發(fā)鍍膜機的操作相對簡單,適合實驗室及工業(yè)生產(chǎn)使用。
6. **適配性強**:可以與其他設(shè)備如真空系統(tǒng)、光學測厚儀等配合,提升沉積效果和膜層質(zhì)量。
7. **成本效益高**:相較于其他鍍膜技術(shù),熱蒸發(fā)鍍膜機的設(shè)備投資和運行成本通常較低。
8. **膜層控制能力強**:可以通過調(diào)整蒸發(fā)時間和材料供應來實現(xiàn)膜厚的控制。
總的來說,熱蒸發(fā)鍍膜機以其優(yōu)良的膜層質(zhì)量和較為簡單的操作,在科研和工業(yè)應用中廣泛使用。

熱蒸發(fā)鍍膜機是一種用于物相沉積(PVD)技術(shù)的設(shè)備,主要功能包括:
1. **膜層制備**:通過加熱蒸發(fā)材料,使其轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),并在基材表面沉積形成薄膜。可以用于制備金屬、絕緣材料或半導體薄膜。
2. **膜層厚度控制**:通過控制蒸發(fā)率和沉積時間,可以調(diào)節(jié)膜層的厚度。
3. **材料種類選擇**:可以使用多種材料進行蒸發(fā),如金、銀、鋁、氧化物等,以實現(xiàn)不同的光學或電氣性能。
4. **真空環(huán)境控制**:在真空環(huán)境中進行鍍膜,降低空氣中的雜質(zhì)對膜層質(zhì)量的影響,提高膜層的致密性和均勻性。
5. **基材適應性**:可用于多種基材的鍍膜,包括玻璃、塑料、金屬等。
6. **功能性薄膜的制備**:可以制備不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、導電膜、光電膜等,廣泛應用于光電子器件、顯示器、傳感器等領(lǐng)域。
7. **多層膜制備**:可實現(xiàn)多層膜的疊加,制造復雜結(jié)構(gòu)以滿足特定的光學或電氣特性。
這些功能使得熱蒸發(fā)鍍膜機在材料科學、電子、光學等領(lǐng)域有著廣泛的應用。
有機蒸發(fā)鍍膜機主要用于在基材上沉積有機薄膜,廣泛應用于以下領(lǐng)域:
1. **顯示器行業(yè)**:用于制造OLED(有機發(fā)光二極管)顯示屏,包括電視、手機和其他電子設(shè)備。
2. **光伏產(chǎn)業(yè)**:在太陽能電池制造中用于沉積薄膜,有助于提高光電轉(zhuǎn)化效率。
3. **光學涂層**:用于制作光學器件的抗反射涂層,增強光學性能。
4. **傳感器**:制造氣體傳感器、溫度傳感器等,利用有機材料的特性進行性能優(yōu)化。
5. **薄膜電容器**:用于電子元件中,以提高電容器的性能和穩(wěn)定性。
6. **包裝行業(yè)**:用于食品包裝材料的表面處理,改善阻隔性和耐久性。
7. **藝術(shù)及裝飾**:在一些藝術(shù)作品或裝飾品上,使用有機薄膜達到特定的視覺和觸感效果。
有機蒸發(fā)鍍膜機因其高精度和可控性,能夠滿足不同領(lǐng)域?qū)Ρ∧ば阅艿亩鄻踊枨蟆?br />
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