真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調,旋轉:0-20r/min可調,可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
離子濺射儀是一種用于材料表面分析和處理的儀器,廣泛應用于物理、材料科學、納米技術以及半導體制造等領域。其基本原理是通過離子束轟擊目標材料表面,導致該材料的原子或分子被濺射出來,從而可以進行成分分析、薄膜沉積或表面修飾等操作。
離子濺射儀的主要組成部分包括:
1. **離子源**:用于產生離子束,通常包括氣體源和加速電場。
2. **真空腔**:為了減少氣體分子對離子束的散射,實驗一般在高真空環(huán)境下進行。
3. **靶材**:待處理或分析的樣品,用于接受離子轟擊。
4. **探測器**:用于捕捉和分析濺射出來的粒子,以獲取樣品的成分信息。
離子濺射的特點包括高靈敏度、高分辨率和適用于材料的處理,是現(xiàn)代材料科學研究和工業(yè)應用中的工具。
磁控濺射鍍膜機是一種用于薄膜沉積的設備,廣泛應用于電子、光學、太陽能、LED等領域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過濺射技術,將靶材表面的原子或分子激發(fā)并沉積在基材表面,從而形成薄膜??梢猿练e金屬、絕緣體和半導體等多種材料。
2. **膜層均勻性調控**:通過調整濺射參數(shù)(如氣體流量、功率、沉積時間等),可以控制薄膜的厚度和均勻性,滿足不同應用的要求。
3. **材料性質優(yōu)化**:可以通過改變靶材的種類、沉積環(huán)境等方式,調節(jié)薄膜的物理和化學性質,如電導率、光學透過率等。
4. **多層膜沉積**:可以實現(xiàn)多層膜的交替沉積,滿足復雜器件的需求,比如光學濾光片、傳感器等。
5. **真空環(huán)境**:在真空條件下進行沉積,可以減少膜層缺陷,提高膜層的質量及其性能。
6. **可控厚度及成分**:通過控制濺射時間和功率,可以實現(xiàn)對膜層厚度及化學成分的準確調控,適用于應用需求。
7. **適應性強**:可以使用多種靶材和基材,廣泛應用于不同領域,包括電子器件、光電材料、裝飾性涂層等。
磁控濺射鍍膜機因其優(yōu)越的沉積過程和膜層質量,在現(xiàn)代材料科學和工程中占有重要地位。

PVD(物相沉積)鍍膜機是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過物相沉積方法,PVD鍍膜機可以在基材表面沉積金屬、合金、氧化物、氮化物等薄膜材料,用于改善表面性能。
2. **表面改性**:通過鍍膜,可以提高基材的耐磨性、耐腐蝕性、抗氧化性等,延長材料的使用壽命。
3. **功能涂層**:PVD鍍膜可以賦予材料特定的功能,例如光學性能(反射、透射)、導電性能、熱導性等,適用于電子、光學等行業(yè)。
4. **裝飾效果**:在一些應用中,PVD鍍膜機可用于實現(xiàn)裝飾性涂層,提高產品的美觀性和附加值。
5. **薄膜**:PVD技術能夠在較低的溫度下沉積量的薄膜,適合用于一些熱敏材料的表面處理。
6. **環(huán)境友好**:相比于化學鍍膜方法,PVD過程通常不需要使用有毒化學物質,減小了對環(huán)境的影響。
7. **可控性強**:PVD鍍膜機可以控制膜厚、沉積速率等參數(shù),實現(xiàn)高重復性和一致性的薄膜性能。
總之,PVD鍍膜機在現(xiàn)代制造業(yè)中發(fā)揮著重要作用,廣泛應用于電子、光學、汽車、等多個領域。

離子濺射儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造和表面分析等領域的設備,其主要特點包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級上進行物質的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應性強。
3. **層次控制**:可以實現(xiàn)對材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結構。
4. **較強的適應性**:離子源與靶材的組合可以根據(jù)需要進行調整,使得該儀器可以處理多種不同類型的材料。
5. **真空環(huán)境**:離子濺射在真空環(huán)境中進行,有助于減少氣體分子對沉積過程的干擾,提高沉積質量。
6. **可調節(jié)能量**:離子源可以調節(jié)離子的能量,從而控制濺射過程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質。
7. **低溫沉積**:相較于傳統(tǒng)的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過選擇合適的離子種類和能量,可以對材料表面進行改性,如提高表面硬度或改變表面化學性質。
總的來說,離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應性,在現(xiàn)代材料科學和工程中發(fā)揮著重要作用。

小型磁控濺射鍍膜機是一種常用于材料表面處理的設備,它的主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、絕緣體或半導體薄膜,廣泛應用于電子、光學和材料科學等領域。
2. **均勻性**:通過磁控濺射技術,能夠實現(xiàn)良好的膜厚均勻性和致密性,有助于提高薄膜性能。
3. **可調性**:用戶可以根據(jù)不同的需求調整沉積參數(shù),如功率、氣壓和氣體成分,以獲得的沉積效果。
4. **多種材料選擇**:支持多種靶材的使用,能夠沉積不同材料的薄膜,如鋁、銅、氮化硅等。
5. **快速成膜**:小型磁控濺射鍍膜機相對快速,適合小批量實驗或研發(fā)。
6. **低溫沉積**:允許在較低溫度下進行沉積,有助于減少基材的熱負荷,適合對熱敏感材料的處理。
7. **簡單操作**:由于其結構緊湊且操作相對簡單,適合實驗室和小規(guī)模生產使用。
這些功能使得小型磁控濺射鍍膜機在科研、工業(yè)和教學等多個領域中得到廣泛應用。
樣品臺是一種用于放置和支撐樣品的實驗設備,廣泛應用于多個領域。以下是樣品臺的主要適用范圍:
1. **生物醫(yī)學研究**:在顯微鏡下觀察細胞、組織切片和其他生物樣品。
2. **材料科學**:用于測試金屬、聚合物、陶瓷等材料的物理和化學性質。
3. **化學分析**:在化學實驗中放置反應瓶、試劑和其他化學物質。
4. **電子顯微鏡**:在電子顯微鏡中支撐和固定樣品,以便進行高分辨率觀察。
5. **光學顯微鏡**:在光學顯微鏡中觀察細小結構、顆粒和晶體等。
6. **工業(yè)檢測**:用于質量控制和檢測產品樣品,如電子元件、機械零件等。
不同類型的樣品臺(如移動樣品臺、平面樣品臺等)可以根據(jù)具體需求進行選擇,以滿足不同實驗或檢測的需求。
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