真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
手套箱一體機是一種實驗室設(shè)備,通常用于處理易受環(huán)境影響的樣品。它的設(shè)計目的是在受控的氣氛中進行實驗,以防止空氣、水分、污染物等與敏感材料的接觸。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工業(yè)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
手套箱一體機通常包含以下幾個部分:
1. **密封箱體**:確保內(nèi)部環(huán)境隔離,通常有透明蓋以便觀察內(nèi)部情況。
2. **手套**:使操作人員能夠在密封環(huán)境內(nèi)進行操作,通常是由耐化學(xué)腐蝕材料制成。
3. **氣體控制系統(tǒng)**:能夠提供惰性氣體(如氮氣或氦氣)以排除氧氣和水分,保持內(nèi)部環(huán)境的穩(wěn)定。
4. **過濾和循環(huán)系統(tǒng)**:確保內(nèi)部氣體的清潔和溫濕度的控制。
5. **監(jiān)測設(shè)備**:用于實時監(jiān)控氣體的成分和其他環(huán)境參數(shù)。
手套箱一體機的使用可以大大提高實驗的安全性和可靠性,使研究人員能夠地控制實驗條件和處理敏感材料。
桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、光學(xué)、電子工程以及其他領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:通過熱蒸發(fā)的方法,將材料加熱到其蒸發(fā)點,使其以蒸氣形式噴發(fā)并在基材表面凝結(jié)形成薄膜。
2. **膜厚控制**:設(shè)備通常配備有膜厚監(jiān)測系統(tǒng)(如晶體振蕩器),可實時監(jiān)測沉積膜的厚度,確保膜厚達到預(yù)期要求。
3. **材料選擇**:可以使用多種材料進行沉積,如金屬、氧化物、氮化物等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
4. **真空環(huán)境**:設(shè)備在高真空環(huán)境中操作,以減少氣體分子對沉積薄膜的干擾,提高膜的質(zhì)量。
5. **基材加熱**:某些設(shè)備可以加熱基材,提高材料的附著力和薄膜的均勻性,改善薄膜質(zhì)量。
6. **多層沉積**:能夠進行多層膜的沉積,適用于需要不同功能層疊加的應(yīng)用。
7. **閥門控制和氣體引入**:可以控制沉積環(huán)境中的氣體成分,以便進行特定的化學(xué)反應(yīng)或改善膜的性能。
8. **用戶界面**:一般配備有友好的用戶界面,方便操作人員設(shè)置參數(shù)、監(jiān)控過程和記錄數(shù)據(jù)。
這種設(shè)備通常適合實驗室研究和小規(guī)模生產(chǎn),因其體積小、操作簡單而受到廣泛歡迎。

熱蒸發(fā)鍍膜機是一種用于物相沉積(PVD)技術(shù)的設(shè)備,主要功能包括:
1. **膜層制備**:通過加熱蒸發(fā)材料,使其轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),并在基材表面沉積形成薄膜??梢杂糜谥苽浣饘佟⒔^緣材料或半導(dǎo)體薄膜。
2. **膜層厚度控制**:通過控制蒸發(fā)率和沉積時間,可以調(diào)節(jié)膜層的厚度。
3. **材料種類選擇**:可以使用多種材料進行蒸發(fā),如金、銀、鋁、氧化物等,以實現(xiàn)不同的光學(xué)或電氣性能。
4. **真空環(huán)境控制**:在真空環(huán)境中進行鍍膜,降低空氣中的雜質(zhì)對膜層質(zhì)量的影響,提高膜層的致密性和均勻性。
5. **基材適應(yīng)性**:可用于多種基材的鍍膜,包括玻璃、塑料、金屬等。
6. **功能性薄膜的制備**:可以制備不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、導(dǎo)電膜、光電膜等,廣泛應(yīng)用于光電子器件、顯示器、傳感器等領(lǐng)域。
7. **多層膜制備**:可實現(xiàn)多層膜的疊加,制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)以滿足特定的光學(xué)或電氣特性。
這些功能使得熱蒸發(fā)鍍膜機在材料科學(xué)、電子、光學(xué)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

束源爐(或稱束流反應(yīng)堆)是一種利用粒子束產(chǎn)生高能粒子的設(shè)備,主要用于研究和應(yīng)用于核物理、材料科學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **粒子加速**:束源爐能夠加速粒子到高能狀態(tài),為后續(xù)的實驗提供足夠的能量。
2. **粒子束應(yīng)用**:通過產(chǎn)生高能粒子束,束源爐可以用于材料的改性、診斷以及產(chǎn)生放射性同位素。
3. **核反應(yīng)研究**:支持核物理研究,例如基本粒子的相互作用、核結(jié)構(gòu)和反應(yīng)機制等。
4. **醫(yī)學(xué)應(yīng)用**:在放射和核醫(yī)學(xué)中用于產(chǎn)生適用于的放射性同位素。
5. **探測**:用于開發(fā)和測試探測器及相關(guān)技術(shù)。
總結(jié)來說,束源爐是在科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用中重要的工具,具有多種功能。

有機蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜材料的沉積設(shè)備,主要應(yīng)用于電子、光電、光學(xué)等領(lǐng)域。其功能主要包括:
1. **薄膜沉積**:通過加熱有機材料,使其蒸發(fā)并沉積在基板表面,形成均勻的薄膜。
2. **控制膜厚**:可以控制沉積的膜厚度,以滿足應(yīng)用需求。
3. **大面積涂層**:適用于大尺寸基板的涂層工藝,滿足工業(yè)生產(chǎn)需求。
4. **高真空環(huán)境**:在高真空條件下進行鍍膜,減少雜質(zhì),提升膜層質(zhì)量。
5. **材料適應(yīng)性**:可用于多種有機材料的鍍膜,如聚合物、染料、液晶等。
6. **多層膜結(jié)構(gòu)**:能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的沉積,適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件。
7. **智能控制**:現(xiàn)代設(shè)備通常配備的控制系統(tǒng),可以自動調(diào)節(jié)參數(shù),提升生產(chǎn)效率和膜的均勻性。
通過以上功能,有機蒸發(fā)鍍膜機在太陽能電池、顯示器、傳感器等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。
蒸發(fā)舟(或稱蒸發(fā)皿)是一種用于化學(xué)實驗和工業(yè)生產(chǎn)中的器具,主要用于蒸發(fā)溶劑和濃縮溶液。蒸發(fā)舟蒸發(fā)顆粒適用范圍一般包括:
1. **化學(xué)實驗**:用于蒸發(fā)液體,濃縮溶液,分離化學(xué)物質(zhì)。
2. **生物實驗**:在生物樣品處理中,常用于蒸發(fā)或濃縮生物樣品中的溶劑。
3. **制藥工業(yè)**:用于制備藥物濃縮液,去除溶劑,生產(chǎn)藥品原料。
4. **食品工業(yè)**:在濃縮果汁、調(diào)味品等生產(chǎn)中使用。
5. **材料科學(xué)**:用于涂層材料的制備,以及材料的合成過程。
6. **環(huán)境監(jiān)測**:在水質(zhì)分析中,用于濃縮水樣中的污染物。
7. **納米材料制備**:在納米顆粒的制備過程中,常用于蒸發(fā)溶液形成固態(tài)顆粒。
在不同的應(yīng)用中,根據(jù)具體需要選用合適材質(zhì)和規(guī)格的蒸發(fā)舟,以確保實驗的準確性和安全性。
http://m.wenhaozhong.com