真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
手套箱一體機是一種用于科學(xué)實驗和工業(yè)應(yīng)用的設(shè)備,主要用于在嚴格的氣氛下進行操作。手套箱提供了一個封閉的工作空間,內(nèi)部可以控制氣體成分(如氮氣、氬氣或真空環(huán)境),以防止空氣中的水分和氧氣對敏感材料或化學(xué)反應(yīng)的影響。
手套箱一體機通常集成了多個功能性模塊,如:
1. **氣體凈化系統(tǒng)**:使用干燥劑和過濾系統(tǒng)來去除空氣中的水分和雜質(zhì)。
2. **溫控系統(tǒng)**:維持箱內(nèi)溫度,以滿足特定實驗的需求。
3. **真空泵**:用于抽取箱內(nèi)空氣,創(chuàng)建真空環(huán)境。
4. **氣體注入系統(tǒng)**:可以在箱內(nèi)補充惰性氣體,確保氣氛的穩(wěn)定。
5. **操作手套**:提供安全的操作空間,使用戶可以在箱內(nèi)進行實驗。
手套箱一體機廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)合成、電子制造、制藥等領(lǐng)域,尤其是在處理易氧化或潮濕敏感材料時,能夠提供必要的保護和控制環(huán)境。
蒸發(fā)舟(或稱為蒸發(fā)小舟)在化學(xué)和材料科學(xué)中主要用于薄膜的制備和物質(zhì)的蒸發(fā)沉積。它的基本功能包括:
1. **材料蒸發(fā)**:蒸發(fā)舟可以將固態(tài)材料加熱到其蒸發(fā)溫度,使其轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),通過真空或惰性氣體環(huán)境將蒸發(fā)出的顆粒沉積在基材上。
2. **薄膜沉積**:通過控制蒸發(fā)過程可以在基材上形成均勻、薄的薄膜,這對于制作電子器件、光學(xué)涂層等重要。
3. **材料選擇性**:蒸發(fā)舟可以用于多種材料(如金屬、氧化物、聚合物等)的蒸發(fā),適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
4. **控制**:通過調(diào)整加熱功率和蒸發(fā)時間,可以控制沉積的厚度和質(zhì)量。
5. **提高純度**:在真空環(huán)境中蒸發(fā),可以減少雜質(zhì)及氧化反應(yīng),得到較高純度的沉積材料。
6. **應(yīng)用廣泛**:蒸發(fā)舟被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)器件、太陽能電池、傳感器等領(lǐng)域。
通過這些功能,蒸發(fā)舟在材料的制備和研究中起到了關(guān)鍵的作用。

熱蒸發(fā)鍍膜機是一種常用于薄膜沉積的設(shè)備,其主要特點包括:
1. **高純度鍍膜**:由于采用高溫加熱源,能有效蒸發(fā)材料,沉積出的薄膜通常具有較高的純度。
2. **良好的均勻性**:通過合理設(shè)計源與基片之間的距離,可以實現(xiàn)較均勻的膜層厚度。
3. **適用范圍廣**:可以用于多種材料的沉積,包括金屬、半導(dǎo)體及一些絕緣材料。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過調(diào)節(jié)加熱溫度和蒸發(fā)源的功率,可以實現(xiàn)不同沉積速率,滿足不同應(yīng)用需求。
5. **操作簡便**:熱蒸發(fā)鍍膜機的操作相對簡單,適合實驗室及工業(yè)生產(chǎn)使用。
6. **適配性強**:可以與其他設(shè)備如真空系統(tǒng)、光學(xué)測厚儀等配合,提升沉積效果和膜層質(zhì)量。
7. **成本效益高**:相較于其他鍍膜技術(shù),熱蒸發(fā)鍍膜機的設(shè)備投資和運行成本通常較低。
8. **膜層控制能力強**:可以通過調(diào)整蒸發(fā)時間和材料供應(yīng)來實現(xiàn)膜厚的控制。
總的來說,熱蒸發(fā)鍍膜機以其優(yōu)良的膜層質(zhì)量和較為簡單的操作,在科研和工業(yè)應(yīng)用中廣泛使用。

桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀是一種常用的薄膜沉積設(shè)備,具有以下幾個顯著特點:
1. **緊湊設(shè)計**:桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀通常體積較小,適合在實驗室或小型生產(chǎn)環(huán)境中使用,便于放置和操作。
2. **蒸發(fā)**:利用熱源加熱蒸發(fā)材料,使其蒸發(fā)并沉積在基底上,能夠?qū)崿F(xiàn)的薄膜沉積。
3. **材料多樣性**:可以使用多種類型的蒸發(fā)材料,如金屬、氧化物等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
4. **真空系統(tǒng)**:一般配備有真空泵,能夠在相對較低的壓力下工作,提高膜層的純度和均勻性。
5. **易于控制**:搭載有控制系統(tǒng),能調(diào)節(jié)蒸發(fā)速率和沉積厚度,方便用戶根據(jù)實驗要求進行參數(shù)設(shè)置。
6. **適應(yīng)性強**:可用于不同尺寸和形狀的基底,如平片、膠卷等,滿足不同實驗或生產(chǎn)需求。
7. **品質(zhì)監(jiān)測**:一些型號可能配備有膜厚監(jiān)測系統(tǒng),實時監(jiān)控沉積過程,確保膜厚的一致性。
8. **維護簡單**:相對而言,桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀的維護和操作相對簡單,適合研究人員和技術(shù)人員使用。
總之,桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀以其靈活性、便捷性和性,在材料科學(xué)、光電器件制造及其他相關(guān)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

有機蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜材料的沉積設(shè)備,主要應(yīng)用于電子、光電、光學(xué)等領(lǐng)域。其功能主要包括:
1. **薄膜沉積**:通過加熱有機材料,使其蒸發(fā)并沉積在基板表面,形成均勻的薄膜。
2. **控制膜厚**:可以控制沉積的膜厚度,以滿足應(yīng)用需求。
3. **大面積涂層**:適用于大尺寸基板的涂層工藝,滿足工業(yè)生產(chǎn)需求。
4. **高真空環(huán)境**:在高真空條件下進行鍍膜,減少雜質(zhì),提升膜層質(zhì)量。
5. **材料適應(yīng)性**:可用于多種有機材料的鍍膜,如聚合物、染料、液晶等。
6. **多層膜結(jié)構(gòu)**:能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的沉積,適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件。
7. **智能控制**:現(xiàn)代設(shè)備通常配備的控制系統(tǒng),可以自動調(diào)節(jié)參數(shù),提升生產(chǎn)效率和膜的均勻性。
通過以上功能,有機蒸發(fā)鍍膜機在太陽能電池、顯示器、傳感器等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。
束源爐(也稱為束流爐或束流反應(yīng)堆)是一種利用加速器產(chǎn)生的粒子束進行核反應(yīng)的設(shè)備。它主要用于以下幾個領(lǐng)域:
1. **基礎(chǔ)科學(xué)研究**:束源爐可用于粒子物理學(xué)和核物理學(xué)的基礎(chǔ)研究,探索粒子的基本性質(zhì)和相互作用。
2. **材料科學(xué)**:束源爐可以用于開發(fā)和測試新材料,尤其是在極端條件下(如高溫、高壓)下的材料性能。
3. **應(yīng)用**:束源爐在醫(yī)學(xué)成像、(如質(zhì)子)等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。
4. **核廢料處理**:束源爐可以用于研究和開發(fā)核廢料處置和轉(zhuǎn)化技術(shù),降低其長期放射性。
5. **新型能源開發(fā)**:在聚變能源研究中,束源爐也被應(yīng)用于研究高溫等離子體的行為,以探索可持續(xù)的能源解決方案。
束源爐的適用范圍不斷拓展,隨著技術(shù)進步和研究的發(fā)展,可能會有新的應(yīng)用領(lǐng)域出現(xiàn)。
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