真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
樣品臺通常指用于放置或展示樣品的設(shè)備或平臺。在科學(xué)實驗、制造業(yè)、展覽等場合中,樣品臺有助于研究人員或客戶觀察和分析樣品的特性。樣品臺可以具有不同的功能,如可調(diào)高度、旋轉(zhuǎn)、照明等,具體取決于其用途和設(shè)計要求。
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桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域的設(shè)備,其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:可在基材上沉積薄膜,形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多樣性**:支持多種靶材(如金屬、合金、氧化物等),能夠制作出不同種類的薄膜。
3. **優(yōu)良的膜質(zhì)量**:采用磁控濺射技術(shù),可以有效提高薄膜的均勻性和致密性,提高膜的性能。
4. **可調(diào)節(jié)參數(shù)**:可以調(diào)節(jié)濺射功率、氣體流量、基片溫度等參數(shù),以滿足不同工藝要求。
5. **大面積鍍膜**:由于其設(shè)計,可以適用于大面積基片的鍍膜需求,在科研和工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的應(yīng)用價值。
6. **過程控制**:配備監(jiān)測系統(tǒng),可以實時監(jiān)測膜厚度、氣氛等,有助于控制沉積過程。
7. **易于操作**:桌面型的設(shè)計使得設(shè)備更加緊湊,操作相對簡單,適合實驗室環(huán)境使用。
8. **真空技術(shù)**:工作過程中保持真空環(huán)境,減少污染,提高沉積質(zhì)量。
這種設(shè)備在半導(dǎo)體器件制造、光學(xué)涂層、傳感器、太陽能電池等多個領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價值。

小型磁控濺射鍍膜機是一種常用于材料表面處理的設(shè)備,它的主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、絕緣體或半導(dǎo)體薄膜,廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域。
2. **均勻性**:通過磁控濺射技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)良好的膜厚均勻性和致密性,有助于提高薄膜性能。
3. **可調(diào)性**:用戶可以根據(jù)不同的需求調(diào)整沉積參數(shù),如功率、氣壓和氣體成分,以獲得的沉積效果。
4. **多種材料選擇**:支持多種靶材的使用,能夠沉積不同材料的薄膜,如鋁、銅、氮化硅等。
5. **快速成膜**:小型磁控濺射鍍膜機相對快速,適合小批量實驗或研發(fā)。
6. **低溫沉積**:允許在較低溫度下進行沉積,有助于減少基材的熱負(fù)荷,適合對熱敏感材料的處理。
7. **簡單操作**:由于其結(jié)構(gòu)緊湊且操作相對簡單,適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)使用。
這些功能使得小型磁控濺射鍍膜機在科研、工業(yè)和教學(xué)等多個領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。

磁控濺射是一種常用的薄膜沉積技術(shù),具有以下幾個特點:
1. **高沉積速率**:由于使用了磁場增強了等離子體的密度,從而提高了濺射粒子的產(chǎn)生率,能夠?qū)崿F(xiàn)較高的沉積速率。
2. **均勻性**:磁控濺射能夠在較大面積上實現(xiàn)均勻的薄膜沉積,適用于大面積涂層和均勻薄膜的要求。
3. **良好的附著力**:由于濺射過程中粒子能量較高,薄膜與基底之間的附著力較好,減少了薄膜剝離的風(fēng)險。
4. **低溫沉積**:相比于其他沉積技術(shù),磁控濺射可以在相對較低的溫度下進行,適合于對溫度敏感的材料。
5. **多材料沉積**:能夠?qū)崿F(xiàn)多種材料的復(fù)合沉積,包括金屬、絕緣體和半導(dǎo)體等,實現(xiàn)材料的多樣性。
6. **可控性強**:沉積過程中的參數(shù)(如氣體壓力、功率、基板溫度等)對薄膜的性質(zhì)有較大影響,因此可以通過控制這些參數(shù)來調(diào)節(jié)薄膜的厚度和質(zhì)量。
7. **環(huán)保性**:相較于某些化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù),磁控濺射通常不涉及毒性氣體,環(huán)境友好。
這些特點使得磁控濺射在電子、光電、硬涂層等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

磁控濺射鍍膜機是一種常用的薄膜制備設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電器件、光學(xué)涂層等領(lǐng)域。其主要特點包括:
1. **高沉積速率**:磁控濺射技術(shù)能夠在較短時間內(nèi)實現(xiàn)較高的薄膜沉積速率,適用于大規(guī)模生產(chǎn)。
2. **優(yōu)良的膜層均勻性**:由于采用磁場增強了離子的密度,膜層的厚度均勻性和思想性得到了顯著提升。
3. **良好的膜質(zhì)**:磁控濺射沉積的膜層通常具有較高的致密性和優(yōu)良的物理性質(zhì),如低內(nèi)應(yīng)力和高附著力。
4. **適用性廣**:可以對多種材料進行沉積,包括金屬、絕緣體和半導(dǎo)體等,適用范圍廣泛。
5. **可控性強**:通過調(diào)節(jié)氣體壓力、功率、目標(biāo)材料和沉積時間等參數(shù),可以控制膜層的厚度和組成。
6. **環(huán)境友好**:相比于其他鍍膜技術(shù),磁控濺射常用的氣體(如氬氣)對環(huán)境危害較小,過程相對環(huán)保。
7. **良好的應(yīng)變控制**:磁控濺射可以在較低的溫度下進行,這對于熱敏感材料尤為重要,可以有效控制膜層的應(yīng)變和缺陷。
8. **多功能性**:可通過不同的配置實現(xiàn)多種功能,如多層膜的沉積或不同材料的復(fù)合沉積。
這些特點使得磁控濺射鍍膜機成為現(xiàn)代薄膜技術(shù)中重要的工具。
磁控濺射鍍膜機是一種常見的薄膜沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于多個領(lǐng)域。其適用范圍主要包括:
1. **光電器件**:用于制造太陽能電池、OLED顯示屏、LED等光電元件的導(dǎo)電膜和熒光膜。
2. **半導(dǎo)體器件**:在集成電路生產(chǎn)中,磁控濺射可以用于沉積金屬、氧化物和氮化物薄膜,這些薄膜用于互連、絕緣和摻雜等功能。
3. **光學(xué)涂層**:生產(chǎn)抗反射 coating、反射鏡涂層和其他光學(xué)薄膜,廣泛應(yīng)用于鏡頭、光學(xué)儀器和顯示器上。
4. **硬涂層**:用于制造硬度高、耐磨損的薄膜,在工具、模具等表面進行保護。
5. **磁性材料**:在數(shù)據(jù)存儲和磁性傳感器中,沉積磁性薄膜以實現(xiàn)特定的磁性能。
6. **裝飾涂層**:在家居用品、電子產(chǎn)品外殼等表面進行裝飾性鍍膜。
7. **生物醫(yī)學(xué)**:在生物傳感器和器械表面形成或生物相容性薄膜。
由于其良好的膜質(zhì)量和均勻性,磁控濺射鍍膜機在材料科學(xué)、納米科技等研究領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用。
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