真空腔室Ф246×260mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵國產(chǎn)FF-63/80分子泵
前級泵機械泵
真空規(guī)全量程真空規(guī)
蒸發(fā)源電阻蒸發(fā)源(兼容金屬與有機蒸發(fā))3組,可切換使用
蒸發(fā)電源2000W直流蒸發(fā)電源1臺,供3組蒸發(fā)源切換使用
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
膜厚儀FTM-107A單探頭
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺可拆卸式60×60mm,具備水冷、旋轉(zhuǎn)功能
真空管路波紋管、真空管道等1套
設(shè)備機架機電一體化
預(yù)留接口CF35一個
輔件備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
熱蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學、電子、材料科學等領(lǐng)域。其基本原理是通過加熱材料,使其蒸發(fā)成氣態(tài),然后在基底表面凝結(jié)形成薄膜。熱蒸發(fā)鍍膜機通常由以下幾個主要部分組成:
1. **真空腔體**:提供低壓環(huán)境,以減少氣體分子對蒸發(fā)材料和沉積薄膜的干擾。
2. **加熱源**:通常使用電阻加熱絲或電子束加熱來加熱蒸發(fā)材料,達到其蒸發(fā)溫度。
3. **蒸發(fā)源**:放置待蒸發(fā)材料的容器,可以是鑄坯、靶材等。
4. **基底夾持系統(tǒng)**:用于固定和加熱待涂覆的基底,一般位于蒸發(fā)源的上方。
5. **監(jiān)控系統(tǒng)**:用于監(jiān)測沉積速度和膜厚,常用的技術(shù)有石英晶體振蕩器或光學膜厚測量。
6. **冷卻系統(tǒng)**:在一些情況下,可能需要冷卻基底以改善膜的品質(zhì)。
熱蒸發(fā)鍍膜機的優(yōu)點包括沉積速度快、膜層均勻、膜的純度高等,但也有局限性,如膜的附著力和應(yīng)力問題。
在選購和使用熱蒸發(fā)鍍膜機時,需要根據(jù)具體的應(yīng)用需求,例如膜材料、沉積速率、膜厚度及基底材料等制定相應(yīng)的方案。
鈣鈦礦鍍膜機是一種用于制備鈣鈦礦材料的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光電材料的研究和產(chǎn)業(yè)化。以下是鈣鈦礦鍍膜機的一些主要特點:
1. **高精度控制**:鈣鈦礦鍍膜機通常配備高精度的溫度、氣體流量和壓力控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)對膜厚度和質(zhì)量的控制。
2. **多種成膜技術(shù)**:設(shè)備可能支持多種成膜技術(shù),如溶液法、真空蒸發(fā)、磁控濺射、化學氣相沉積(CVD)等,以滿足不同材料和應(yīng)用的需求。
3. **均勻性好**:鈣鈦礦鍍膜機通過優(yōu)化基板旋轉(zhuǎn)、氣體流動等參數(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高均勻性的薄膜沉積,提高材料性能。
4. **適應(yīng)性強**:可適用于不同類型的基材,包括玻璃、硅片、塑料等,提供更大的設(shè)計靈活性。
5. **快速換膜**:許多鈣鈦礦鍍膜機設(shè)計有快速換膜功能,方便進行不同材料的快速切換,提高生產(chǎn)效率。
6. **環(huán)境友好**:新型鈣鈦礦鍍膜機在材料使用和廢氣處理方面越來越注重環(huán)保,減少對環(huán)境的影響。
7. **便于規(guī)?;a(chǎn)**:具備一定自動化程度的設(shè)備可以支持大規(guī)模生產(chǎn),滿足工業(yè)化需求。
8. **實時監(jiān)控與數(shù)據(jù)記錄**:設(shè)備通常配備實時監(jiān)控系統(tǒng),可以記錄沉積過程中的各項數(shù)據(jù),便于后續(xù)分析和優(yōu)化。
這些特點使得鈣鈦礦鍍膜機在光伏、發(fā)光二極管(LED)、激光器等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。

有機蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜材料的沉積設(shè)備,主要應(yīng)用于電子、光電、光學等領(lǐng)域。其功能主要包括:
1. **薄膜沉積**:通過加熱有機材料,使其蒸發(fā)并沉積在基板表面,形成均勻的薄膜。
2. **控制膜厚**:可以控制沉積的膜厚度,以滿足應(yīng)用需求。
3. **大面積涂層**:適用于大尺寸基板的涂層工藝,滿足工業(yè)生產(chǎn)需求。
4. **高真空環(huán)境**:在高真空條件下進行鍍膜,減少雜質(zhì),提升膜層質(zhì)量。
5. **材料適應(yīng)性**:可用于多種有機材料的鍍膜,如聚合物、染料、液晶等。
6. **多層膜結(jié)構(gòu)**:能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的沉積,適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件。
7. **智能控制**:現(xiàn)代設(shè)備通常配備的控制系統(tǒng),可以自動調(diào)節(jié)參數(shù),提升生產(chǎn)效率和膜的均勻性。
通過以上功能,有機蒸發(fā)鍍膜機在太陽能電池、顯示器、傳感器等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。

手套箱一體機是一種結(jié)合了手套箱和其他實驗設(shè)備的綜合性實驗裝置,主要用于處理在惰性氣氛(如氮氣、氦氣等)下進行的實驗或操作。其功能通常包括:
1. **惰性氣體保護**:手套箱內(nèi)可以充入惰性氣體,避免實驗材料與空氣中的水分和氧氣反應(yīng),保護樣品的純凈性。
2. **手套操作**:設(shè)備通常配有手套,可以在不暴露于外部環(huán)境的情況下進行實驗操作,如取樣、裝置組裝等。
3. **樣品存儲**:手套箱內(nèi)部可以用于存放敏感材料和試劑,確保其不受外界污染。
4. **氣體監(jiān)控**:一些手套箱一體機配備氣體監(jiān)控系統(tǒng),可以實時監(jiān)測箱內(nèi)環(huán)境,確保氣體濃度和成分的穩(wěn)定。
5. **溫度和濕度控制**:可以調(diào)節(jié)和控制箱內(nèi)的溫度和濕度,為實驗提供理想環(huán)境。
6. **接口擴展**:某些手套箱一體機設(shè)計有多種接口,可以與其他實驗設(shè)備聯(lián)動,如真空泵、反應(yīng)釜等。
7. **數(shù)據(jù)記錄與控制**:部分設(shè)備能夠連接計算機或其他控制系統(tǒng),實現(xiàn)數(shù)據(jù)記錄和實驗過程的自動化監(jiān)控。
手套箱一體機廣泛應(yīng)用于材料科學、化學反應(yīng)、制藥、生物實驗等領(lǐng)域,尤其在對氧敏感或濕敏性的材料處理上具有重要意義。

小型熱蒸發(fā)鍍膜機是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光學、電子、材料科學等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:能夠在基材表面沉積金屬、氧化物、氮化物等材料,以形成薄膜。
2. **控制膜厚**:通過調(diào)節(jié)蒸發(fā)時間和速率,可以控制薄膜的厚度,滿足不同應(yīng)用的需要。
3. **高真空環(huán)境**:通常配備真空系統(tǒng),能夠在高真空條件下進行蒸發(fā),有效減少氣體分子對薄膜的影響,提高膜層質(zhì)量。
4. **多種材料兼容**:支持多種蒸發(fā)材料的使用,包括鋁、銀、金、硅等,適應(yīng)不同的應(yīng)用需求。
5. **均勻沉積**:通過合理設(shè)計蒸發(fā)源的布局,實現(xiàn)薄膜在基材上的均勻沉積。
6. **小型化設(shè)計**:體積小、重量輕,適合實驗室、小規(guī)模生產(chǎn)等場合,便于搬運和操作。
7. **自動化控制**:一些設(shè)備配備了計算機控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)自動化操作,提率和重復(fù)性。
8. **多種基材兼容**:能夠處理不同材料和形狀的基材,如玻璃、塑料、陶瓷等。
總之,小型熱蒸發(fā)鍍膜機是一種 versatile 的設(shè)備,適用于科學研究和工業(yè)應(yīng)用中的薄膜制備。
有機蒸發(fā)鍍膜機主要用于在基材上沉積有機薄膜,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:
1. **顯示器行業(yè)**:用于制造OLED(有機發(fā)光二極管)顯示屏,包括電視、手機和其他電子設(shè)備。
2. **光伏產(chǎn)業(yè)**:在太陽能電池制造中用于沉積薄膜,有助于提高光電轉(zhuǎn)化效率。
3. **光學涂層**:用于制作光學器件的抗反射涂層,增強光學性能。
4. **傳感器**:制造氣體傳感器、溫度傳感器等,利用有機材料的特性進行性能優(yōu)化。
5. **薄膜電容器**:用于電子元件中,以提高電容器的性能和穩(wěn)定性。
6. **包裝行業(yè)**:用于食品包裝材料的表面處理,改善阻隔性和耐久性。
7. **藝術(shù)及裝飾**:在一些藝術(shù)作品或裝飾品上,使用有機薄膜達到特定的視覺和觸感效果。
有機蒸發(fā)鍍膜機因其高精度和可控性,能夠滿足不同領(lǐng)域?qū)Ρ∧ば阅艿亩鄻踊枨蟆?br />
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