真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵進口Pfeiffer分子泵
前級泵機械泵,北儀優(yōu)成
真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川
濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板)
濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺
流量計20sccm/50sccm進口WARWICK
控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套
冷水機LX-300
前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套
旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套
限流閥DN63mm一套
充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套
基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉:0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃
膜厚監(jiān)控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配)
真空管路波紋管、真空管道等1套
設備機架機電一體化
預留接口CF35法蘭一個
備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
小型磁控濺射鍍膜機是一種用于材料表面處理和薄膜沉積的設備。它利用磁控濺射的原理,將靶材上的原子或分子濺射到基材表面,形成薄膜。該機器適合于科研機構、小型實驗室和生產(chǎn)線中的小批量生產(chǎn)。
### 主要特點:
1. **緊湊設計**:小型設備占用空間小,適合不同實驗室環(huán)境。
2. **率**:能夠快速沉積薄膜,提高生產(chǎn)效率。
3. **多功能性**:支持多種靶材,可用于金屬、氧化物、氮化物等不同材料的沉積。
4. **控制**:具備氣體流量、壓強、功率等參數(shù)的控制,便于優(yōu)化沉積條件。
5. **良好的膜質(zhì)量**:能沉積出量的薄膜,適用于光學、電子、硬膜等領域。
### 應用領域:
- 半導體工業(yè)
- 光學薄膜
- 太陽能電池
- 儲能材料
- 防護涂層等。
### 注意事項:
- 操作前需熟悉設備手冊,確保安全使用。
- 定期維護設備,保持良好的工作狀態(tài)。
如果你有具體的功能要求或使用場景,可以提供更多信息,以便于給出更詳細的建議。
磁控濺射鍍膜機是一種常用的薄膜制備設備,廣泛應用于半導體、光電器件、光學涂層等領域。其主要特點包括:
1. **高沉積速率**:磁控濺射技術能夠在較短時間內(nèi)實現(xiàn)較高的薄膜沉積速率,適用于大規(guī)模生產(chǎn)。
2. **優(yōu)良的膜層均勻性**:由于采用磁場增強了離子的密度,膜層的厚度均勻性和思想性得到了顯著提升。
3. **良好的膜質(zhì)**:磁控濺射沉積的膜層通常具有較高的致密性和優(yōu)良的物理性質(zhì),如低內(nèi)應力和高附著力。
4. **適用性廣**:可以對多種材料進行沉積,包括金屬、絕緣體和半導體等,適用范圍廣泛。
5. **可控性強**:通過調(diào)節(jié)氣體壓力、功率、目標材料和沉積時間等參數(shù),可以控制膜層的厚度和組成。
6. **環(huán)境友好**:相比于其他鍍膜技術,磁控濺射常用的氣體(如氬氣)對環(huán)境危害較小,過程相對環(huán)保。
7. **良好的應變控制**:磁控濺射可以在較低的溫度下進行,這對于熱敏感材料尤為重要,可以有效控制膜層的應變和缺陷。
8. **多功能性**:可通過不同的配置實現(xiàn)多種功能,如多層膜的沉積或不同材料的復合沉積。
這些特點使得磁控濺射鍍膜機成為現(xiàn)代薄膜技術中重要的工具。

PVD(物相沉積)鍍膜機是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備,廣泛應用于電子、光學、工具制造和裝飾等領域。其主要特點包括:
1. **薄膜質(zhì)量高**:PVD工藝能夠在較低的溫度下沉積量、高致密度的薄膜,具有良好的附著力和均勻性。
2. **材料多樣性**:PVD技術可以鍍金屬、合金和陶瓷材料,能夠滿足不同應用需求。
3. **環(huán)保性**:PVD過程通常不涉及有害化學物質(zhì),相比于化學氣相沉積(CVD)等工藝更為環(huán)保。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過調(diào)整工藝參數(shù),可以控制薄膜的沉積速率,從而滿足不同應用的需求。
5. **設備占用空間小**:PVD鍍膜機相對較小,適合在空間有限的環(huán)境中使用。
6. **自動化程度高**:現(xiàn)代PVD設備通常具有較高的自動化水平,可以實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蝕性**:沉積的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蝕性,適用于工業(yè)應用。
8. **適應性強**:可以處理不同形狀和尺寸的基材,從小型零件到大型工件均可適應。
這些特點使得PVD鍍膜機在多個領域得以廣泛應用,并逐漸成為現(xiàn)代材料表面處理的重要設備。

離子濺射儀是一種用于材料表面分析和處理的設備,主要功能包括:
1. **材料沉積**:可以用于在基材表面上沉積薄膜,常見于半導體、光電子器件和表面涂層的制造。
2. **表面分析**:通過濺射過程,可以分析材料的成分和結構,常用于質(zhì)譜分析和表面分析技術,如時間飛行質(zhì)譜(TOF-MS)。
3. **清潔和去除涂層**:可以去除材料表面的污染物或舊涂層,為后續(xù)處理做好準備。
4. **再結晶和表面改性**:可以通過離子轟擊改變材料的表面狀態(tài),如增加薄膜的粘附力、改善光學性能等。
5. **刻蝕**:在微電子工藝中,用于刻蝕特定區(qū)域,形成所需的圖案和結構。
6. **離子 implantation**:將離子注入材料中,以改變其電學、光學或機械性質(zhì)。
離子濺射儀在材料科學、微電子、納米技術等領域有著廣泛的應用。

靶材通常是在物理、化學和材料科學等領域中使用的一種材料,主要具有以下功能:
1. **靶向作用**:在粒子物理實驗中,靶材可用于吸收入射粒子并產(chǎn)生可觀測的反應,如在粒子加速器中用作靶。
2. **材料沉積**:在薄膜沉積技術中,靶材用于將材料蒸發(fā)或濺射到基底上,形成薄膜。這在電子器件、光學涂層等應用中重要。
3. **反應介質(zhì)**:在化學反應中,靶材可以作為反應物,產(chǎn)生相應的化學反應或物理變化。
4. **能量傳輸**:靶材能夠接收入射粒子的能量并將其轉化為其他形式的能量,或以其他方式傳遞能量。
5. **示蹤和檢測**:在放射性同位素研究中,靶材可以用作示蹤劑,幫助檢測和分析現(xiàn)象。
總之,靶材在科學研究和工業(yè)應用中扮演著重要的角色,其具體功能根據(jù)應用場景的不同而有所差異。
小型磁控濺射鍍膜機是一種常見的薄膜沉積設備,廣泛應用于多個領域。其適用范圍主要包括:
1. **材料科學**:用于研究新材料的特性和薄膜的性能,可以制備金屬、合金和合成材料的薄膜。
2. **電子器件**:在半導體、光電器件等領域,常用于制造電極、保護膜和介電層等。
3. **光學 coating**:用于光學元件的鍍膜,如鏡頭、光學濾光片、防反射涂層等。
4. **太陽能電池**:用于鍍膜太陽能電池的材料,提升其光電轉換效率。
5. **傳感器**:在傳感器的制造中用于沉積感應膜,提升其性能和穩(wěn)定性。
6. **飾品與裝飾品**:用于金屬表面的裝飾性鍍膜,提高美觀及防腐蝕性能。
7. **生物醫(yī)學**:在生物材料和器械的表面改性中,改善表面特性,促進生物相容性。
8. **實驗室研究**:小型設備適合于科研實驗室進行材料合成與性質(zhì)測試。
小型磁控濺射鍍膜機因其操作靈活、適用性廣泛,受到許多行業(yè)和科研機構的歡迎。
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